报告概述

预计到 2034 年，全球极紫外光刻 (EUVL) 市场规模将从 2024 年的141 亿美元增至约611 亿美元，在预测期内以复合年增长率 15.8% 的速度增长。 2024年至2033年。

极紫外光刻系统是一种先进的光学光刻技术。这是一种波长为13.5nm的软X射线方法，通过生产更强大、更小、更节能的芯片，正在改变半导体制造。

由于半导体制造技术的进步和EY光刻光源技术的持续增长，EUVL市场正在快速增长。对电子设备更高性能的需求不断增长，特别是针对人工智能和 5G 等应用的高能效尖端处理器。各公司ASML等公司凭借尖端的EUV系统处于领先地位，并被包括三星和台积电在内的多家半导体制造商采用。

此外，电动汽车和物联网的增长也推动了对各种先进半导体的需求，推动了EUVL市场。随着制造商倾向于扩大生产规模，对 EUVL 技术的投资预计将继续增加，从而促进市场的整体增长和效率。

主要要点

• 2024 年，光源细分市场占据主导地位，在全球极紫外光刻领域占据超过 43.8% 的份额(EUVL) 市场。
• 2024 年，集成器件制造商细分市场占据主导地位，占据全球极紫外光刻 (EUVL) 市场61.1% 的份额。
• 中国 2024 年，极紫外光刻 (EUVL) 市场估值为 36 亿美元 ，复合年增长率高达 1%。
• 2023 年，亚太地区在全球极紫外光刻 (EUVL) 市场中占据主导地位，超过37.5％份额。
• 根据 NIST 的数据，EThe China 允许在半导体中内置更小的功能，目前据报道成本150十亿美元。
• 根据 SIA 的数据，2024 年 11 月全球半导体销售额达到578.0 亿美元，较 11 月增长20.7% 2023 年总额479 十亿美元，比 2024 年 10 月增加1.6%。这说明对 EUVL 技术的需求不断增长。

中国极紫外光刻 (EUVL）市场规模

2024年 中国极紫外光刻（EUVL）市场估值 36亿美元 ，复合年增长率高达 17.1%。这是由于快速发展的半导体生态系统，包括先进的制造设施、研究机构和熟练的劳动力。这一生态系统支持 EUVL 技术的发展和创新，从而使中国能够以前所未有的精度和效率生产尖端微芯片。

此外，中国对包括电子在内的 EUVL 技术进行了大量投资，包括光源、光学和掩模技术方面的进步。例如，上海微电子装备有限公司（SMEE）最近拥有极紫外（EUV）辐射发生器和光刻设备的尖端专利。这些投资增强了能力EUVL 系统的性能和效率，推动市场增长。

2023 年，亚太地区在全球极紫外光刻 (EUVL) 市场中占据主导地位，占据超过 37.5% 的份额。这主要是由于该地区包括台积电和三星在内的各种主要参与者的存在。对先进半导体器件的需求也很高，消费电子汽车、人工智能和 5G 蓬勃发展。

此外，韩国、台湾和中国等国家/地区的政府提供了大量的财政激励、税收优惠和补贴，以促进国内半导体制造。例如，韩国政府公布了一项100 亿美元计划，以支持其半导体行业。这包括扩大对私人研发的税收优惠，以及半导体基础设施的投资。

设备细分市场分析

2024 年，光源细分市场占据主导地位，占据全球极紫外光刻 (EUVL) 市场超过 43.8% 的份额。这是由于对更小、更强大的电子设备（包括智能手机和游戏机）的需求。这推动了对先进 EUVL 技术的需求，因为它允许小规模生产复杂的微芯片层。

此外，EUVL 光源，特别是使用激光驱动等离子体的光源，可以高效地将激光能转换为 EUV 光。这种效率对于先进微芯片的大规模生产至关重要，从而在该领域占据主导地位。

EUVL 光源还产生具有非常高能量的光子，这是实现先进半导体制造所需的精细分辨率所必需的。这种需求进一步增强了该细分市场在市场中的主导地位。

最终用户细分市场分析

2024年，集成器件制造商细分市场占据主导地位，占据全球极紫外光刻(EUVL)市场61.1%以上份额。集成器件制造商控制着从设计到生产的半导体制造过程。这可以优化 EUVL 技术的使用，并实现更高的效率和成本效益，从而有助于占据该细分市场的主导地位。

此外，集成设备制造商还开发和制造其专有的半导体产品，例如存储芯片、微处理器和传感器。这可以让他们在利用先进的 EUVL 系统生产尖端设备方面具有竞争优势。

这些制造商通常拥有大量的财务资源，从而使他们能够大量投资于最新的 EUVL 设备和技术。这种投资能力使我们能够在不断发展的行业中保持领先地位

主要细分市场：

按设备划分

• 光源
• 掩模
• 光学
• 其他

按最终用户划分

• 集成设备制造商
• 代工厂

驱动因素

小型化需求不断增加

小型化需求不断增加一直是EUVL市场的驱动力。随着消费者和行业需要更小、更强大的电子设备，包括可穿戴设备、平板电脑和智能手机，对 EUV 等先进半导体制造技术的需求变得至关重要。

EUVL 能够生产尺寸10nm以下的设备。例如，iPhone 12系列中使用的苹果A14 Bionic芯片采用台积电的5nm工艺制造，依靠EUV光刻来实现其令人难以置信的小而精确的特性。这种进动对于为人工智能、5G 通信和自动驾驶汽车等先进应用创建微型复合材料非常重要。

限制因素

初始成本较高

EUVL 系统需要复杂且昂贵的设备，例如光源、镜子和掩模。这个定价点可能会严重阻碍市场增长，特别是对于规模较小的半导体制造商或新进入者而言。

此外，建立 EUVL 设施包括对复杂且昂贵的设备专用工具以及高价制造设备的大量投资。这些成本也可能增加障碍，对市场增长构成挑战。

增长机会

对先进半导体的需求不断增长

对先进半导体的需求不断增长为市场带来了重大机遇等机器学习、5G通信和人工智能等各种先进应用需要更高速度和更低功耗的高性能半导体。因此，EUVL 可以通过满足性能需求来生产此类先进芯片。

此外，消费电子产品的激增也推动了对更小、更高效的半导体的需求。除此之外，从智能家居到工业自动化等物联网应用的扩展也增强了市场增长的机会。

挑战因素

复杂的制造工艺

EUVL需要更高的精度来对包括镜头、镜头和反射镜在内的光学组件进行对准和校准。这对于制造商来说可能具有挑战性且耗时。

此外，EUVL 系统的制造需要在洁净室环境中进行，以防止光污染物理组件。因此，此类环境的维护成本高昂，并且需要严格的协议，从而增加了市场的复杂性。

增长因素

由于数据中心和云计算需求不断增长等多种因素，EUVL 市场正在快速增长。对数据存储和处理能力不断增长的需求推动了对先进半导体的需求。这反过来又导致对 EUVL 系统的需求增加。

此外，结合了高级驾驶辅助系统 (ADAS)、自动驾驶技术和信息娱乐系统的现代车辆需要先进的半导体驱动器。因此，EUVL技术半导体生产此类芯片，导致市场增长。

最新趋势

各种趋势正在重塑全球极紫外光刻市场。高性能计算的需求为市场增长提供了巨大的机遇因为它需要具有高处理速度和低功耗的强大处理器。

此外，机器学习、5G 和人工智能等新兴技术正在增强对这些系统的需求。企业正在合作，利用各个利益相关者的专业知识和资源来推进 EUVL 技术。例如，领先的研究和创新中心 IMEC 与 GlobalFoundries 合作开发和优化 EUV 光刻工艺。此次合作的重点是提高半导体制造中 EUV 技术的效率和性能。

主要地区和国家

北部美洲

• 美国
• 加拿大

欧洲

• 德国
• 法国
• 英国
• 西班牙
• 意大利
• 俄罗斯
• 荷兰
• 欧洲其他地区

亚洲太平洋地区

• 中国
• 日本
• 韩国
• 印度
• 澳大利亚
• 新加坡
• 泰国
• 越南
• 亚太地区其他地区

拉丁美洲

• 巴西
• 墨西哥
• 拉丁美洲其他地区

中东和非洲

• 南非
• 沙特阿拉伯
• 阿联酋
• MEA其他地区

主要参与者分析

市场上的领先参与者之一是荷兰公司ASML，它是半导体制造设备的领先供应商。他们以其先进的光刻机而闻名，这对于生产微芯片至关重要。

市场上另一家著名的公司是德国蔡司集团，它是光学和光电子领域的全球领导者。他们的半导体制造技术 (SMT) 部门与 ASML 密切合作，开发 EUVL 机器中使用的光学系统。

市场上的主要参与者

• ASML
• ZEISS Group
• Ushio Inc.
• Energetic
• Applied Materials, Inc.
• HOYA Corporation
• AGC Electronics America
• Advantest Corporation
• SUSS MicroTec SE
• NTT Advanced Technology Corporation
• 其他主要参与者

近期发展

• 2024 年 1 月，蔡司集团推出了高 NA（数值孔径）极紫外 (EUV) 光刻系统。与现有的 EUV 系统相比，这一尖端系统代表了半导体制造领域的巨大飞跃，能够制造出具有令人难以置信的精细特征的微芯片。
• 2023 年 12 月，大日本印刷有限公司 (DNP) 开发了一种光掩模制造工艺，能够适应 3 纳米（10-9 米）光刻工艺，支持极紫外 (EUV) 光刻工艺，这是半导体的尖端工艺
• 中国将于 2023 年 8 月推出首台国产 28 纳米光刻机今年年底。在美国主导的芯片设备出口制裁背景下，这一突破将极大促进北京在整个芯片制造价值链上实现技术自给自足。